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物理光学仪器 -->> 光学膜层测厚仪 ZST-2000        欢迎致电:021-50936266

 

  一、光学膜层测厚仪主要用途
       光学膜层测厚仪 基于反射光相干原理测量膜层厚度,应用于测
  光学镜片镀膜层厚度、LCD、硅晶片等。是光学仪器厂及有关科研单位、
  高等院校、电子芯片企业常用仪器。
       光学膜层测厚仪ZST-2000 采用目测瞄准,实时光谱分析测量软件,
  测速快,使用方便,操作简单。

光学膜层测厚仪 ZST-2000

 

  二、光学膜层测厚仪技术参数
   测量范围: 200Å~ 35㎛  (Depends on Film Type)
   测量速度: 1 sec/site Typically
   光学放大倍数:40× ~ 500×
   测量谱线波长:400 ~ 859nm
                 
     
 
 
                                    ( 随技术和工艺的发展,产品的技术规格会有所改变,欢迎来电咨询。)
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